德國著名的半導(dǎo)體沉積設(shè)備提供商AIXTRON愛思強(qiáng)股份有限公司日前發(fā)表了新的OVPD展示設(shè)備OLAD(OrganicLarge Area Demonstrator，有機(jī)大面積展示器)，認(rèn)為它在制程技術(shù)方面已經(jīng)達(dá)到了重要里程碑。該系統(tǒng)在過去幾個月進(jìn)行了內(nèi)部測試，在某些情況中效果卓越，目前已可進(jìn)行初始客戶測試。

　　AIXTRON的目標(biāo)是在生產(chǎn)相關(guān)的環(huán)境下，使用OLAD系統(tǒng)展示與客戶相關(guān)的參數(shù)。為此，AIXTRON為OVPD制程專門設(shè)計(jì)的專有核心元素已針對Generation8.5基材尺寸(2250mmx2250mm)進(jìn)行擴(kuò)充和最佳化，且整合到與Manz集團(tuán)共同制作的、擁有相應(yīng)尺寸的制程反應(yīng)室中。AIXTRON愛思強(qiáng)還優(yōu)化了自有的源技術(shù)STExS(短熱暴露源)，以便基于基材尺寸和要求，在快速、省料的過程中將經(jīng)過精確測量的材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài)。

　　相比起傳統(tǒng)的真空氣化(VTE，vacuum thermal evaporation)，這種源技術(shù)能夠在數(shù)秒鐘之內(nèi)開始?xì)饣?，在基材處理完成后立即停止運(yùn)轉(zhuǎn)。監(jiān)于目前已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了50埃/秒(a/sec)的沉積率，整個流程時間大大縮短，同時確保消耗的材料量盡量減少。

　　而在OVPD制程中使用的AIXTRON噴淋頭技術(shù)也在其中發(fā)揮了重要作用。與真空氣化VTE不同的是，這項(xiàng)技術(shù)可促進(jìn)基于區(qū)域化的有機(jī)層沉積。OVPD制程中需要的材料流則通過STExS源技術(shù)供應(yīng)。STExS源以50a/sec的高效沉積率運(yùn)行，每秒可氣化約40毫克。同時，專利設(shè)計(jì)方案，可以確保敏感而價昂的有機(jī)材料能在制程中得到細(xì)致處理。

　　該公司指出，從之前進(jìn)行的測試可以看出，材料利用率遠(yuǎn)超70%，極為高效率。這些結(jié)果說明，相比傳統(tǒng)氣化技術(shù)，新制程取得了可觀的進(jìn)展，與大幅降低OLED生產(chǎn)成本的目標(biāo)一致。目前，該公司給相關(guān)客戶的展示已經(jīng)開始進(jìn)行，而OLED制造商也得以使用這些新的制程技術(shù)，降低OLED的生產(chǎn)成本。

　　AIXTRON執(zhí)行長Martin Goetzeler表示：“我們的OLAD展示設(shè)備目前實(shí)現(xiàn)的展示能力是一項(xiàng)意義重大的中期成就，助力我們實(shí)現(xiàn)高效的OLED生產(chǎn)。我們很高興現(xiàn)在可以向業(yè)內(nèi)客戶提供滿足這方面的技術(shù)，也再次說明本公司有能力將復(fù)雜技術(shù)成功轉(zhuǎn)變?yōu)槌墒飚a(chǎn)品。”