生產(chǎn)型GaNMOCVD設(shè)備控制系統(tǒng)軟件設(shè)計(jì)
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上傳人：胡曉宇、何華云 上傳時(shí)間： 2013-08-14 瀏覽次數(shù)： 88 |
| 作者 | 胡曉宇、何華云 |
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| 單位 | 中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所、中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所 |
| 分類號(hào) | TN304.05;TP311.52 |
| 發(fā)表刊物 | 《電子工業(yè)專用設(shè)備》 |
| 發(fā)布時(shí)間 | 2006年 |
1 引言
金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相外延(MOCVD：Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 是制造超薄層微結(jié)構(gòu)(低維半導(dǎo)體材料)最常用、成本較低、生產(chǎn)量大的制備方法之一，有著廣闊的市場前景。國際上MOCVD 技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟，形成了產(chǎn)業(yè)化規(guī)模(6 片、19 片、24 片及30 片以上等)。國內(nèi)由于種種原因發(fā)展非常有限，只在研究所和大學(xué)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行相關(guān)的研發(fā)工作，尚未形成產(chǎn)業(yè)化，而生產(chǎn)型的GaN MOCVD 設(shè)備完全依賴進(jìn)口。
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1、引言
2、GaN MOCVD 控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
3、國外部分控制系統(tǒng)簡介
4、GaN MOCVD 控制系統(tǒng)自主開發(fā)關(guān)鍵技術(shù)
5、國內(nèi)MOCVD 計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)研究進(jìn)展
6、MOCVD 控制技術(shù)發(fā)展趨勢
7、結(jié)束語
8、致謝
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